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HITACHI EA6000VX

創新高速掃描分析機種,可直接分析整機樣品、輕元素與微量元素分析、貴金屬鎳鈀金與複合層高精密金屬電鍍膜厚分析。

#XRF#分析#金屬#元素分析#貴金屬#膜厚分析#自動化分析#X射線螢光分析儀#桌上型XRF
EA6000VX

EA6000VX (桌上型X射線螢光分析儀 Desktop XRF)

自動化分析功能
  •  超高速平面掃描
  •  雷射自動定位系統(移動誤差小於100μm)
  •  500筆連續測試
  •  掃描路徑紀錄系統

高解析鏡頭模組結合光學定位系統
  •  高解析度CCD鏡頭與自動對焦系統
  •  廣域及狹域高解析度操作
  •  微小異物查找(解析度20um以下)

 

高速掃描分析機種─自動化分析

憑藉最大1,000,000cps的高計數率Vortex SDD檢測器完成高靈敏度的測量,以及借助最大250 mm×200 mm範圍的快速自動掃描平台,實現高速精準掃描量測超高速平面掃描,對於尺寸為100 mm×100 mm的樣品,可在3分鐘內檢測出指定元素的分佈。具雷射自動定位系統(移動誤差小於100μm),可連續測試500筆、掃描路徑紀錄系統。

具備高速雷射掃描功能

連續多點測試功能

 

高解析鏡頭模組結合光學定位系統

通過Telecentric Lens 系統和快速電動樣品台,將元素掃描像和光學成像進行重合,對微小部品中特定位置所含元素也能進行簡單觀察。最大可觀察250 mm×200 mm的範圍,並且能夠實現廣域位置最小誤差為100 µm以內的精確定位。

高解析度CCD鏡頭與自動對焦系統

廣域及狹域高解析度操作

微小異物查找(解析度20um以下)

 

高精密分析效能高階桌上型XRF(X射線螢光分析儀)

可選配高感度氦氣充填系統,依照欲測定元素特性,選擇在大氣或氦氣環境下測量,氦氣環境可減少大氣干擾,大幅提高檢測輕元素的靈敏度,測量範圍擴大。

高感度氦氣充填系統

高靈敏度成份分析與高精度金屬電鍍膜厚量測

 

基本規格

項目 規格
產地 日本
測定元素範圍 鈉(Na11)~鈾(U92)※ 需選配氦氣充填系統
樣品型態 固體、液體、粉末皆可
X射線源 管電壓: 15 kV、30kV、40 kV、50 kV(可調式)
管電流:1mA(10~1000μA自動調整最適電流輸出)
X射線照射方向 上方垂直照射型
檢測器 Vortex SDD(Hitachi專利,多陰極矽半導體檢測器)
冷卻方式 電子冷卻(不需液態氮)
準直器(分析區域) 0.2、0.5、1.2、3mmφ(自動切換)
樣品觀察 高解析、高分辨率彩色CCD鏡頭
濾波器 六種模式(自動切換)
樣品最大可掃描範圍 250(W)×200(D)×150(H) mm
儀器尺寸 750(W)×740(D)×783(H) mm
重量 160Kg(不含電腦及螢幕)
掃描分析功能 ■ 高解析、高分辨率CCD鏡頭
■ 雷射自動對焦系統(誤差小於1mm)
■ 連續500點掃描分析
■ 掃描路徑紀錄系統
■ 微小部件掃描分析
■ 微小異物查找(解析度20um以下)
定性分析功能 ■ 微量元素成份定性分析
■ 元素分析
■ 能譜比對
■ 元素自動辨別比對
定量分析功能 ■ 微量元素成份定量分析
■ RoHS有害物質分析
■ 無鹵規範有害物質分析
■ EN71-3有害物質分析
■ 電鍍膜厚測定
■ 元素分析FP法
■ 元素分析檢量線法
■ HS快速分析模式
標準配件 ■ EA 系列專用桌上型Dell電腦(含液晶螢幕、滑鼠、鍵盤)
■ RoHS塑料有害物質標準品(日本國家一級認證單位Jab認證)
■ 儀器硬體確認片一組(含強度、能量、解析度及光徑校正)
■ 樣品杯
■ 樣品杯用測試薄膜
可加購選項 ■ 氦氣充填系統
■ 操作搖桿
■ 信號燈
■ 特殊式樣專用載台
■ 樣品置放治具
■ 環境限制用標準物質(無鹵、EN71-3、Sb銻、Sn錫、P磷、S硫)
■ 金屬電鍍膜厚標準品
■ 油壓機與製錠機
設置需求 建議桌面尺寸:1500(W)×1000(D) mm
使用電源:AC100~240V(50~60Hz)/400VA

 

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