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光電製程清潔系列
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在半導體製程中，設備上經plasma氣相層積長出來的二氧化矽及氮化矽薄膜，具有非常緊密的結構。以強酸雖能去除，但是不鏽鋼或鋁合金表面遭到侵蝕變色，比不清洗還糟。 洗威™二氧化矽薄膜清洗劑SMC03，pH 7.0中性的酸鹼值，不傷害金屬表面，是高精度要求的新選擇。
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