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工控王國】原子層沉積系統(ALD)設備銷售

原子層沉積系統有兩個製程腔體,分別作為高介電常數介電層薄膜沉積。薄膜沉積為熱反應方式,非電漿增強型原子層沉積(PEALD)。

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Aixtron Genus Stratagem 200

機台型號:Aixtron Genus Stratagem 200

晶片尺寸:200mm

八吋晶片載盤可提供 6 吋、4 吋及破片晶片之製程

 

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